发明名称 PROCEDE DE FABRICATION D'UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP CHIMIO-SENSIBLE ET TRANSISTOR AINSI OBTENU
摘要 <p>Procédé de fabrication d'un transistor à effet de champ notamment d'un transistor à effet de champ chimio-sensible pour un détecteur de gaz. Pour réduire le nombre de techniques d'élaboration et de matériaux utilisables ainsi que pour augmenter les possibilités de variations dans l'ordre des opérations à effectuer, dans le cadre du procédé on développe une couche de protection d'isolation de porte (3) qui protège la couche d'isolation de porte (2) dans la suite du traitement contre l'influence de l'environnement ; avant de réaliser une couche d'électrode de porte on l'enlève partiellement ou totalement. L'invention concerne également un tel transistor à effet de champ et son utilisation dans un détecteur de gaz.</p>
申请公布号 FR2962592(A1) 申请公布日期 2012.01.13
申请号 FR20110056164 申请日期 2011.07.07
申请人 ROBERT BOSCH GMBH 发明人 FIX RICHARD;KRAUSS ANDREAS;MARTIN ALEXANDER
分类号 H01L21/336;G01N27/414;H01L29/78 主分类号 H01L21/336
代理机构 代理人
主权项
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