发明名称 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UN TRANSISTOR A EFFET DE CHAMP CHIMIO-SENSIBLE ET TRANSISTOR AINSI OBTENU |
摘要 |
<p>Procédé de fabrication d'un transistor à effet de champ notamment d'un transistor à effet de champ chimio-sensible pour un détecteur de gaz. Pour réduire le nombre de techniques d'élaboration et de matériaux utilisables ainsi que pour augmenter les possibilités de variations dans l'ordre des opérations à effectuer, dans le cadre du procédé on développe une couche de protection d'isolation de porte (3) qui protège la couche d'isolation de porte (2) dans la suite du traitement contre l'influence de l'environnement ; avant de réaliser une couche d'électrode de porte on l'enlève partiellement ou totalement. L'invention concerne également un tel transistor à effet de champ et son utilisation dans un détecteur de gaz.</p> |
申请公布号 |
FR2962592(A1) |
申请公布日期 |
2012.01.13 |
申请号 |
FR20110056164 |
申请日期 |
2011.07.07 |
申请人 |
ROBERT BOSCH GMBH |
发明人 |
FIX RICHARD;KRAUSS ANDREAS;MARTIN ALEXANDER |
分类号 |
H01L21/336;G01N27/414;H01L29/78 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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