Polymer for electron beam lithography and chemically amplified positive resist composition including the same,申请号KR20040104287-传众专利搜索

发明名称	Polymer for electron beam lithography and chemically amplified positive resist composition including the same
摘要
申请公布号	KR101104628(B1)	申请公布日期	2012.01.12
申请号	KR20040104287	申请日期	2004.12.10
申请人		发明人
分类号	G03F7/039	主分类号	G03F7/039
代理机构		代理人
主权项
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