发明名称 场发射像素管
摘要
申请公布号 TWI356438 申请公布日期 2012.01.11
申请号 TW096147940 申请日期 2007.12.14
申请人 鸿海精密工业股份有限公司 发明人 魏洋;刘亮;范守善
分类号 H01J31/12 主分类号 H01J31/12
代理机构 代理人
主权项 一种场发射像素管,其包括:一壳体;及多个显示像素单元间隔设置于该壳体内,所述壳体包括一出光部;其改良在于,每个显示像素单元包括一阴极,至少一阳极,以及至少一萤光粉层,该阴极包括一阴极支撑体与至少一个阴极发射体,该阴极发射体一端与阴极支撑体电连接,另一端与阳极对应设置,该阳极为金属杆并包括一端面,该端面正对于所述壳体的所述出光部,该萤光粉层设置于阳极端面上。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的场发射像素管中,多个显示像素单元线性排列或按一定的阵列排列。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的场发射像素管中,阳极与阴极发射体数量相同,且,每个阴极发射体与一阳极对应设置。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的萤光粉层为白色萤光粉层、红色萤光粉层、绿色萤光粉层或蓝色萤光粉层。如申请专利范围第4项所述的场发射像素管,其中,每个显示像素单元包括三个阳极,且,三个阳极上分别设置有红色萤光粉层、绿色萤光粉层和蓝色萤光粉层。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的金属杆的直径为100微米至1厘米。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的端面为抛光的平面、半球面、球面、锥面或凹面。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的阴极发射体包括一电子发射端,该电子发射端为阴极发射体远离阴极支撑体的一端。如申请专利范围第8项所述的场发射像素管,其中,所述的电子发射端正对阳极端面设置、斜对阳极端面设置或设置在阳极端面附近。如申请专利范围第9项所述的场发射像素管,其中,所述的电子发射端与阳极端面的距离小于5毫米。如申请专利范围第8项所述的场发射像素管,其中,所述的电子发射端包括多个突出的场发射尖端。如申请专利范围第11项所述的场发射像素管,其中,所述的场发射尖端的顶端突出有一根奈米碳管。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的阴极发射体为一奈米碳管长线、单根奈米碳管或单根奈米碳纤维。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的壳体为一中空透明的圆柱体、立方体或三棱柱。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的壳体为一中空透明的V形管、Z形管、W形管或S形管。如申请专利范围第1项所述的场发射像素管,其中,所述的场发射像素管进一步包括一吸气剂位于壳体内。
地址 新北市土城区自由街2号