发明名称 经多孔性二氧化矽涂覆之喷墨记录材料
摘要
申请公布号 TWI356005 申请公布日期 2012.01.11
申请号 TW095135522 申请日期 2006.09.26
申请人 惠普研发公司 美国;伊尔福影像瑞士股份有限公司 瑞士 发明人 毕钰百;邦加鲁 珊迪普;马考 弗瑞德里克;考特 伊维斯 米契尔
分类号 B41M5/50 主分类号 B41M5/50
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 一种在一水性环境中处理二氧化矽的方法,其包括:将一二氧化矽微粒分散在该水性环境中;在该水性环境中,以一无机处理试剂将该二氧化矽微粒的表面净电荷从负逆转至正,以形成一表面经活化的二氧化矽微粒;及在该水性环境中,让该表面经活化的二氧化矽微粒与一单胺基有机矽烷试剂接触,以形成一经试剂改质及表面经活化的二氧化矽微粒。如申请专利范围第1项之方法,其中该水性环境在该分散步骤前包含该无机处理试剂;及其中当将该二氧化矽微粒逐部分分散在该水性环境中时,其会发生该二氧化矽颗粒之净电荷逆转。如申请专利范围第1项之方法,其中在该二氧化矽微粒后,将该无机处理试剂加入至该水性环境。如申请专利范围第1项之方法,其中当将该二氧化矽微粒及表面活化剂同步加入至该水性环境时,会发生该分散步骤及该逆转步骤。如申请专利范围第1项之方法,其中该单胺基有机矽烷试剂包含一级胺、二级胺、三级胺或四级胺之一种。一种喷墨媒质薄片之制备方法,其包括:将一二氧化矽微粒分散在一水性环境中;使用一无机处理试剂让该二氧化矽微粒的表面净电荷从负逆转至正,以形成一表面经活化的二氧化矽微粒;让该表面经活化的二氧化矽微粒与一单胺基有机矽烷试剂接触,以形成一经试剂改质及表面经活化的二氧化矽微粒;制备一包含该经试剂改质及表面经活化的二氧化矽微粒与一黏着剂的多孔性涂布组成物;及将该多孔性涂布组成物涂布在一媒质基材上。如申请专利范围第6项之方法,更包括在该多孔性组成物涂层上形成一光泽提高层;其中该光泽提高层包含一球形胶体氧化矽。一种经处理可使用在喷墨媒质涂布物中的二氧化矽微粒,其包含一表面已藉由在一水性环境中经一无机处理试剂而活化的二氧化矽微粒;其中该二氧化矽微粒以一单胺基有机矽烷试剂进行试剂改质。一种油墨接收基材,其包含:一照相原纸层;及一在该照相原纸层上形成的多孔性涂布组成物;其中该多孔性涂布组成物包含一经双处理的二氧化矽微粒,其表面经由一无机处理试剂活化及经由一单胺基有机矽烷试剂进行试剂改质;及一黏着剂,其与该经双处理的二氧化矽微粒混合。一种印刷喷墨影像用的系统,其包含:一含有一多孔性涂布组成物的媒质薄片,其包含:一照相原纸层;一在该照相原纸层上形成的多孔性涂布组成物;其中该多孔性涂布组成物包括一经双处理的二氧化矽微粒,其表面经由一无机处理试剂活化及经由一单胺基有机矽烷试剂进行试剂改质;及一黏着剂,其与该经处理的二氧化矽微粒混合;及一包含球形胶体二氧化矽的光泽提高层,其在该多孔性组成物涂层上形成;及一含有阴离子染料着色剂的喷墨油墨,其经安置用来印刷在该媒质薄片上。
地址 美国;瑞士