| 主权项 |
一种结构构件，其包含基板，该基板包括彼此电绝缘的复数导电区域，其中：该等导电区域系由氧化区域来彼此电绝缘，该氧化区域是由该基板的氧化材料所制成；及该氧化材料是由配置在该氧化区域内之复数通孔或沟槽的内表面所形成，由该等通孔或沟槽之内表面所形成的该氧化材料和相邻之通孔或沟槽的氧化材料相接触，和该氧化材料的厚度大于在该等沟槽之底部处的该基板厚度。根据申请专利范围第1项之结构构件，其中该复数通孔或沟槽之间的该最近距离是2μm或更小。根据申请专利范围第1项之结构构件，其中形成各个该等沟槽之部分之材料的该厚度与各个该等沟槽的该深度之间的该差异是2μm或更小，该差异对应存在于各个该等沟槽之下表面下方之该材料的该厚度。根据申请专利范围第1项之结构构件，其中该通孔或沟槽具有100μm或更小的深度。一种结构构件生产方法，该结构构件包含基板，该基板包括彼此电绝缘的复数导电区域，该方法包含以下步骤：将复数通孔或沟槽形成间隔排列在基板上；及在该复数通孔或沟槽的至少内表面上热氧化该基板，藉此绕着该复数通孔或沟槽而形成连续氧化区域，以隔离该等导电区域。根据申请专利范围第5项之结构构件生产方法，其中形成该复数通孔或沟槽的该步骤包含下列步骤：在该基板的表面上而非在该等通孔或沟槽的部份上形成氮化矽薄膜作为遮罩；和在从该基板的表面移除该遮罩之前，先执行热氧化该基板的步骤。一种加速度感测器，其包含根据申请专利范围第1至4项任一项之该结构构件，其中该结构构件包含可移动构件，该可移动构件用以感测加速度。一种回转仪，其包含根据申请专利范围第1至4项任一项之该结构构件，其中该结构构件包含可移动构件，该可移动构件用以感测由于角速度所产生的力。一种致动器，其包含根据申请专利范围第1至4项任一项之该结构构件，其中该结构构件包含可移动构件，该可移动构件用以将电能的输入力转换成实体运动。一种电位感测器，其包含根据申请专利范围第1至4项任一项之该结构构件，其中该结构构件包含可移动构件，该可移动构件具有用以根据欲量测的物体之电位来输出电信号的侦测电极部。 |
