发光的系统

主权项

一种发光的系统，包含：一基板；及发光装置之一阵列，其为由该基板所支撑，该阵列系具有其界定一面积之一外周边，该发光装置之阵列系定位以俾使于该发光装置之阵列的所有发光装置总面积的总和对于由该外周边所界定的面积之一比值系至少约0.75。如申请专利范围第1项之系统，更包含：一封装，其容纳该基板与该发光装置之阵列。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系包含四个发光装置。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系由四个发光装置所组成。如申请专利范围第4项之系统，其中，该四个发光装置系配置于其具有二列与二行之矩形矩阵。如申请专利范围第4项之系统，其中，该四个发光装置系配置于其具有一列与四行之一矩形的矩阵。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系包含六个发光装置。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系由六个发光装置所组成。如申请专利范围第8项之系统，其中，该六个发光装置系配置于具有二列与三行之矩形矩阵。如申请专利范围第8项之系统，其中，该六个发光装置系配置于具有一列与六行之矩形矩阵。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系由2*N个发光装置所组成，于其，N系一个正整数，且该2*N个发光装置系配置于具有N列与二行之矩形矩阵。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系包含二个发光装置。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系由二个发光装置所组成。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系包含一红色发光装置、一绿色发光装置、与一蓝色发光装置。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列的一长宽比系约16x9。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列的一长宽比系约4x3。如申请专利范围第1项之系统，其中，于该发光装置之阵列的各个发光装置之一长宽比系约4x3。如申请专利范围第1项之系统，其中，于该发光装置之阵列的各个发光装置之一长宽比系约16x9。如申请专利范围第1项之系统，更包含：一封装，其容纳该基板与该发光装置之阵列，该封装系具有一层，其构成使得自该发光装置发出且撞击于该层的光线之至少约75%为通过该层。如申请专利范围第19项之系统，其中，该层系配置以使一比值至少为约10，该值系指一边缘长度比上该发光装置的一表面与该层的一表面之间的距离。如申请专利范围第19项之系统，其中，该层系配置以使该发光装置阵列的表面与其最接近发光装置阵列的表面之该层的一表面之间的一距离为自约5微米至约400微米。如申请专利范围第19项之系统，其中，该层包含至少一个光学构件。如申请专利范围第22项之系统，其中，该光学构件系选自由一光子晶格、一滤色器、一极化选择层、一波长转换层、与一抗反射覆层所组成的群组之一光学构件。如申请专利范围第2项之系统，其中，该封装更包括一散热层。如申请专利范围第2项之系统，其中，该封装系安装于一散热装置上。如申请专利范围第2项之系统，其中，该封装系包括一封装基板。如申请专利范围第26项之系统，其中，该封装基板含有铝(Al)、氮(N)、铜(Cu)、碳(C)、金(Au)、或其组合。如申请专利范围第2项之系统，其中，该封装系安装于一热电式冷却器上。如申请专利范围第1项之系统，其中，于该发光装置阵列的至少一个发光装置系包含一发光二极体(LED)。如申请专利范围第29项之系统，其中，该发光二极体系一光子晶格式发光二极体。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置系一表面发射式雷射。如申请专利范围第1项之系统，更包含：一冷却系统，其构成使得该冷却系统系于使用期间而调节该发光二极体之温度。如申请专利范围第1项之系统，其中，于该发光装置阵列的至少一个发光装置系包含由一光线产生区域所支撑之一第一层，第一层之一表面系构成使得由该光线产生区域所产生的光线可经由第一层之表面而自该发光装置发出，第一层之表面系具有根据一图案而随空间变化之一介电函数。如申请专利范围第33项之系统，其中，该图案系具有一理想晶格常数、与其为大于零之值的失调参数。如申请专利范围第33项之系统，其中，该图案系包含一非周期性的图案。如申请专利范围第33项之系统，其中，该图案系包含一半周期性的图案。如申请专利范围第33项之系统，其中，该图案系包含一复合周期性的图案。如申请专利范围第33项之系统，其中，该图案系包含一周期性的图案。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系包含其为电气串联连接之多个发光装置。如申请专利范围第1项之系统，其中，该发光装置之阵列系包含以电气并联连接之多个发光装置。如申请专利范围第1项之系统，其中，于该发光装置之阵列的所有发光装置之总面积总和对于由该外周边所界定的面积之比值系至少约0.8。如申请专利范围第1项之系统，其中，于该发光装置的阵列所有发光装置之总面积总和对于由该外周边所界定的面积之比值系至少约0.85。如申请专利范围第1项之系统，其中，于该发光装置的阵列所有发光装置之总面积的总和对于由该外周边所界定的面积之比值系至少约0.9。