发明名称 压印模具
摘要
申请公布号 TWI355998 申请公布日期 2012.01.11
申请号 TW097126786 申请日期 2008.07.15
申请人 大印刷股份有限公司 发明人 佐野尚武;有塚佑树;法元盛久;藤田浩
分类号 B29C59/02 主分类号 B29C59/02
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种压印模具,系将图案区域抵碰于被转印膜,藉由光照射,将前述被转印膜硬化而转印图案的压印模具,其特征为:具备有:具有设有前述图案区域之第1主面、及与前述第1主面相对向的第2主面且由透明材料所构成的基板;设在前述第1主面,沿着前述图案区域之外周的第1遮光膜;及设在前述第2主面,具有包含与前述图案区域相对向之区域的开口部,一部分与前述第1遮光膜相对向的第2遮光膜,在垂直于前述基板的剖面中,将前述被转印膜硬化之光相对于前述第2主面的最大入射角系小于将与前述开口部相接之侧之前述第2遮光膜的一端、及距离前述图案区域为最远之侧之前述第1遮光膜的一端加以连结的线相对于前述第2主面之垂线所成角度;前述开口部系比前述第2主面之与前述图案区域相对向的区域更宽。如申请专利范围第1项之压印模具,其中,前述第1遮光膜之表面的水平程度系低于前述图案区域的表面。如申请专利范围第1项或第2项之压印模具,其中,距离前述开口部为最远之侧之前述第2遮光膜的一端系在将距离前述图案区域为最远之侧之前述第1遮光膜的一端投影在前述第2主面的位置、与前述基板之外缘之间延伸。如申请专利范围第1项或第2项之压印模具,其中,另外具备有:以覆盖前述第2遮光膜的方式设在前述第2主面之上的透明基材。如申请专利范围第1项或第2项之压印模具,其中,前述基板为石英玻璃。如申请专利范围第1项或第2项之压印模具,其中,前述第1及第2遮光膜相对于将前述被转印膜硬化的光,具有2以上的光学浓度。
地址 日本