发明名称 细线形光阻之剥除方法
摘要
申请公布号 TWI356286 申请公布日期 2012.01.11
申请号 TW095118903 申请日期 2006.05.26
申请人 亚妥帖股份有限公司 发明人 克利斯汀 史帕琳;德克 条斯;尼尔 伍德
分类号 G03F7/42 主分类号 G03F7/42
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种移除在基板上的光阻膜之方法,其包含下列步骤:a)使用含硷的水溶液处理该基板;b)其后使用包含硷和至少一种剥除增进剂的溶液进一步处理该基板,其中该剥除增进剂系选自下列所组成的群组:己二醇、乙二醇一乙醚、乙二醇一丁醚、乙二醇一异丙醚、丙二醇一甲醚、丙二醇一乙醚、丙二醇一丁醚、二乙二醇一甲醚、二乙二醇一乙醚、二乙二醇一丙醚、二乙二醇一丁醚、二丙二醇一甲醚、二丙二醇一乙醚、二丙二醇一丙醚、二丙二醇一丁醚、三乙二醇一甲醚、三乙二醇一乙醚、三乙二醇一丙醚、三乙二醇一丁醚、三丙二醇一甲醚、三丙二醇一乙醚、三丙二醇一丙醚、三丙二醇一丁醚、二乙二醇一异丙醚和丙二醇一甲醚乙酸酯。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤b)中所用的该溶液进一步包含季铵盐类及/或选自三唑类、苯并三唑类、咪唑类和四唑类之化合物。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤b)中所用的该溶液包含己二醇和乙二醇一异丙醚的混合物,且此等化合物的含量以步骤b)中所用该溶液总量计算之5至10重量%。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤a)中所用的该溶液中所含的硷为氢氧化物。根据申请专利范围第4项之方法,其中步骤a)中所用的该溶液中所含该氢氧化物的含量为0.05-15重量%,基于步骤a)中所用的该溶液的总量计。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤a)中所用的该溶液中所含的硷为通式NR3R4R5之胺其中R3、R4和R5为相同或相异且为氢或具有1至18个碳原子之烷基或羟基烷基、苯基、烷基苯基或羟基烷基苯基,其中烷基具有1至18个碳原子。根据申请专利范围第6项之方法,其中该胺系选自三甲胺、三乙胺、苯甲基二甲基胺、苯基二甲基胺、十二烷基二甲基胺、十六烷基二甲基胺、十八烷基二甲基胺、十二烷基二乙基胺、十六烷基二乙基胺、十八烷基二乙基胺、十二烷基二-正丙基胺、十二烷基二-异丙基胺、苯甲基甲基十六烷基胺、甲基乙基十六烷基胺、对-十二烷基苯甲基二甲基胺、及苯甲基甲基十八烷基胺。根据申请专利范围第6项之方法,其中该胺为选自三乙醇胺、二乙醇胺、二丙基胺、甲醇二乙醇胺、丙醇二乙醇胺和丙醇乙醇胺的烷醇胺。根据申请专利范围第6至8项中任一项之方法,其中该溶液包含含量为0.05-35重量%,基于步骤a)中所用的该溶液的总量计。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤a)中该的溶液同时包含可溶性矽酸盐,较佳者原矽酸钠或矽酸钠。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤b)中的该溶液同时包含可溶性矽酸盐,较佳者原矽酸钠或矽酸钠。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤a)中的该溶液同时包含铜错合剂。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤a)中的该溶液系于1.0-10.0巴及30°-90℃的温度下喷涂于其表面上具有光阻膜的基板上,处理时间为10秒-10分钟。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤b)中的该溶液包含根据申请专利范围第4至5项之硷或根据申请专利范围第6至9项之硷。根据申请专利范围第2项之方法,其中该季铵盐类具有通式NR1R2R3R4X其中R1、R2、R3、和R4为相同或相异且系选自烷基、羟基烷基、苯基、烷基苯基和羟基烷基苯基,其中烷基具有1至18个碳原子,及其中X系选自阴离子。根据申请专利范围第15项之方法,其中该至少一种季铵盐系选自氢氧化四甲基铵、氢氧化胆硷、和氢氧化三-羟基乙基甲基铵。根据申请专利范围第15项之方法,其中该至少一种季铵盐在溶液中的浓度为2至35重量%,基于步骤b)中所用的该溶液的总量计。根据申请专利范围第2项之方法,其中步骤b)中所用的该溶液包含苯并咪唑、5-胺基四唑、5-苯基四唑、苯并三唑、甲基苯并三唑及/或乙基苯并三唑。根据申请专利范围第1项之方法,其中该剥除增进剂在制程温度下系不会挥发,及拥有高于90℃之沸点。根据申请专利范围第1项之方法,其中步骤b)中的该溶液系于1.0-10.0巴及30°-90℃的温度下喷涂于其表面上具有光阻膜的基板上,处理时间为0.5-10分钟。根据申请专利范围第1项之方法,其中所用的基板针对L-和S-值具有L/S值小于50微米。根据申请专利范围第1项之方法,其中使用印刷电路板为基板。
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