发明名称 偏振膜、含有偏振膜的光学膜叠层体及其制造方法
摘要 本发明提供一种偏振膜及包含该偏振膜的光学膜叠层体。所述光学膜叠层体包含连续带状的由结晶性酯类热塑性树脂形成的基体材料、和成膜在所述基体材料上的偏振膜,所述偏振膜由聚乙烯醇类树脂形成,在所述偏振膜中,二色性物质发生了取向,其中,所述偏振膜的厚度为10μm以下,且在将单体透射率设为T、将偏振度设为P时,所述偏振膜具有满足下述条件的光学特性:P>-(100.929T-42.4-1)×100(其中,T<42.3),及P≥99.9(其中,T≥42.3),所述偏振膜通过由气体氛围中的辅助拉伸和硼酸水溶液中拉伸构成的2阶段拉伸而形成。
申请公布号 CN102313923A 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN201110260710.4 申请日期 2011.09.05
申请人 日东电工株式会社 发明人 后藤周作;喜多川丈治;宫武稔;森智博;上条卓史
分类号 G02B5/30(2006.01)I;G02B1/10(2006.01)I;B32B23/08(2006.01)I;B32B7/12(2006.01)I 主分类号 G02B5/30(2006.01)I
代理机构 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人 曹立莉
主权项 一种连续带状偏振膜,其由聚乙烯醇类树脂形成,在所述偏振膜中,二色性物质发生了取向,所述连续带状偏振膜的厚度为10μm以下,且在将单体透射率设为T、将偏振度设为P时,所述偏振膜具有满足下述条件的光学特性:P>‑(100.929T‑42.4‑1)×100,其中,T<42.3,P≥99.9,其中,T≥42.3,所述连续带状偏振膜通过利用由气体氛围中的辅助拉伸和硼酸水溶液中拉伸构成的2阶段拉伸工序对包含成膜在基体材料上的所述聚乙烯醇类树脂层的叠层体进行拉伸而形成,所述基体材料由处于无定形状态的结晶性酯类热塑性树脂形成,且所述气体氛围中的辅助拉伸在保持所述基体材料的所述无定形状态的温度下进行。
地址 日本大阪府