一种薄膜体声波谐振器的制备方法

摘要

本发明公开了一种薄膜体声波谐振器的制备方法，该方法包括以下步骤：准备硅衬底，清洗、烘干；在硅衬底上淀积一层低应力Si3N4薄膜，涂抹光刻胶，光刻窗口图形并刻蚀掉窗口中的Si3N4；采用刻蚀窗口形成通孔并清除残余的光刻胶和Si3N4；使用牺牲材料填充通孔并抛光表面；于经抛光的表面上依次沉积下电极、压电薄膜、上电极的结构；释放牺牲层并干燥，制备薄膜体声波谐振器。本发明方法工艺简单，在衬底上制备出结构稳定、机械强度高及Q值高的薄膜体声波谐振器。

主权项

一种薄膜体声波谐振器的制备方法，包括：(1)准备硅衬底，清洗、烘干；(2)在硅衬底上淀积一层低应力Si3N4膜，涂抹光刻胶，光刻窗口图形并刻蚀掉窗口中的Si3N4；(3)利用刻蚀窗口形成通孔并清除残余的光刻胶和Si3N4；(4)使用牺牲材料填充通孔并抛光表面；(5)于经抛光的表面上依次沉积下电极、压电薄膜、上电极；(6)释放牺牲层并干燥，制备薄膜体声波谐振器。