发明名称 纳米多孔膜及其制备方法
摘要 本发明涉及一种碳纳米结构体-金属复合纳米多孔膜,其是在具有微米或纳米级气孔的分离膜支撑体的一面或两面涂布碳纳米结构体-金属的复合体。本发明还涉及一种碳纳米结构体-金属复合纳米多孔膜的制备方法。该方法包括在表面活性剂存在下,将碳纳米结构体-金属的复合体进行分散后,涂布于分离膜支撑体的一面或两面的步骤;以及将上述涂布的分离膜支撑体进行热处理,从而使上述金属熔接于上述分离膜支撑体的步骤。根据本发明的碳纳米结构体-金属复合纳米多孔膜,由于上述碳纳米结构体-金属的复合体中金属为数纳米-数百纳米级,因此具有在低温下熔融的特点。
申请公布号 CN102316964A 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN201080008022.2 申请日期 2010.03.26
申请人 株式会社百奥尼 发明人 朴翰浯;金在河;尹国进
分类号 B01D69/00(2006.01)I;B01D71/00(2006.01)I 主分类号 B01D69/00(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 谢顺星
主权项 一种碳纳米结构体‑金属复合纳米多孔膜,其特征在于,其是在具有微米或纳米级气孔的分离膜支撑体的一面或两面涂布碳纳米结构体‑金属的复合体。
地址 韩国大田广域市