由自规避磨粒阵列制造的磨具

摘要

本发明涉及包含磨粒的磨具，所述磨粒按照不均匀图案定位于阵列中，所述不均匀图案在每个磨粒周围都具有专属区，所述专属区具有大于磨粒所要求粒度范围的最大直径的最小尺寸。本发明描述了设计这种磨粒自规避阵列和将这种阵列转移至磨具主体的方法。

主权项

一种制造在每个磨粒周围具有选定的排除区的磨具的方法，所述排除区具有这样的最小半径：超过所要求的磨粒粒度的最大半径，所述方法包括以下步骤：(a)选择具有确定尺寸和形状的两维平面区域；(b)为所述平面区域选择要求的磨粒粒度和浓度；(c)随机产生一系列两维坐标值；(d)将每对随机产生的坐标值限定为与任何相邻坐标值对相差一个最小值(k)；(e)产生有足够数量坐标值对的、被限定的并随机产生的坐标值阵列，它们以点的形式绘制在图上，为所选定的两维平面区域形成要求的磨粒浓度和所选定的磨粒粒度；和(f)将磨粒居中放置在所述阵列的每个点处；所述最小值(k)大于所述磨粒的最大直径。