| 发明名称 | 用于制造导电片的方法和用于制造触控面板的方法 | ||
| 摘要 | 利用第一光(106a)辐照形成于透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理，和利用第二光(106b)辐照形成于所述透明支撑体(102)另一个主表面上的第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理，所述曝光处理执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的第一光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的第二光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。 | ||
| 申请公布号 | CN102314960A | 申请公布日期 | 2012.01.11 |
| 申请号 | CN201110147048.1 | 申请日期 | 2011.05.27 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 栗城匡志 |
| 分类号 | H01B5/14(2006.01)I;H01B13/00(2006.01)I;G06F3/041(2006.01)I | 主分类号 | H01B5/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈松涛;蹇炜 |
| 主权项 | 一种用于制造导电片(10、114)的方法，所述方法包括对光敏材料(100)进行曝光和显影的步骤，所述光敏材料(100)具有透明支撑体(102)、形成于所述透明支撑体(102)的一个主表面上的第一光敏层(104a)和形成于所述透明支撑体(102)的另一个主表面上的第二光敏层(104b)，其中：所述曝光步骤包括：利用光(106a)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第一光敏层(104a)，由此对所述第一光敏层(104a)进行曝光的第一曝光处理；和利用光(106b)辐照所述透明支撑体(102)上的所述第二光敏层(104b)，由此对所述第二光敏层(104b)进行曝光的第二曝光处理；并且所述曝光步骤执行为使得入射到所述第一光敏层(104a)上的光(106a)基本上不到达所述第二光敏层(104b)且入射到所述第二光敏层(104b)上的光(106b)基本上不到达所述第一光敏层(104a)。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||