| 发明名称 | 基底校正装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型提供一种基底校正装置，属于基底处理技术领域，其可解决现有的基底校正装置不能既保证校正操作容易进行又避免基底滑动的问题。本实用新型的基底校正装置包括：第一支撑单元，顶端具有用于接触基底的第一接触部，所述第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元，顶端具有用于接触基底的第二接触部，所述第二接触部与基底间具有小于所述第一静摩擦系数的第二静摩擦系数；用于驱动所述第一支撑单元进行升降，或驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降的驱动单元；用于调整支撑在所述第二支撑单元上的基底的位置的校正单元。本实用新型可用于校正液晶显示器的玻璃基板等。 | ||
| 申请公布号 | CN202111071U | 申请公布日期 | 2012.01.11 |
| 申请号 | CN201120086248.6 | 申请日期 | 2011.03.29 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 周贺;刘还平;潘梦霄;常有军 |
| 分类号 | H01L21/68(2006.01)I;H01L21/683(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/68(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种基底校正装置，其特征在于，包括：第一支撑单元，顶端具有用于接触基底的第一接触部，所述第一接触部与基底间具有第一静摩擦系数；第二支撑单元，顶端具有用于接触基底的第二接触部，所述第二接触部与基底间具有小于所述第一静摩擦系数的第二静摩擦系数；用于驱动所述第一支撑单元进行升降，或驱动所述第一支撑单元和第二支撑单元进行升降的驱动单元；用于调整支撑在所述第二支撑单元上的基底的位置的校正单元。 | ||
| 地址 | 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号 | ||