局部曝光装置和局部曝光方法

摘要

本发明提供能够提高在基板面内的显影处理后的抗蚀剂残膜的均匀性、并对布线图案的线宽以及间距的偏差进行抑制的局部曝光装置和局部曝光方法。局部曝光装置包括：基板输送部件；腔室，其用于形成对被处理基板进行曝光处理的空间；光源，其具有沿与基板输送方向交叉的方向线状排列的多个发光元件，能够利用发光元件的发光对在下方输送的被处理基板上的感光膜照射光；发光驱动部，能够将构成光源的多个发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单元而选择性地进行发光驱动；基板检测部件，其对被基板输送部件输送的被处理基板进行检测；控制部，其被供给基板检测部件的基板检测信号，并且控制由发光驱动部进行的发光元件的驱动。

主权项

一种局部曝光装置，其用于对形成在基板上的感光膜的规定区域进行曝光处理，该局部曝光装置的特征在于，其包括：基板输送部件，其用于形成基板输送路径，并将上述基板沿着上述基板输送路径水平地输送；腔室，其用于覆盖上述基板输送路径的规定区间并且形成对上述基板进行曝光处理的空间；光源，其具有多个的发光元件，能够利用上述发光元件的发光对被在上述发光元件的下方输送的基板上的感光膜照射光，该发光元件沿着与基板输送方向相交叉的方向呈线状地排列在上述腔室内且在上述基板输送路径的上方；发光驱动部，其能够将构成上述光源的多个的发光元件中的一个或者多个发光元件作为发光控制单元而选择性地进行发光驱动；基板检测部件，其配置在上述基板输送路径的比上述光源靠上游侧的位置，用于对被上述基板输送部件输送的上述基板进行检测；控制部，其被供给上述基板检测部件的基板检测信号，并且控制由上述发光驱动部对上述发光元件进行的驱动；上述控制部对上述发光驱动部进行控制的方式如下所述：根据上述基板检测部件的基板检测信号与基板输送速度来获得基板输送位置，形成在上述基板上的感光膜的规定区域通过上述光源的下方时，只有上述多个发光元件中的能够向上述规定区域进行照射的发光元件发光。