发明名称 | 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法,涉及集成电路技术领域。本方法根据输入的集成电路物理版图数据,对物理版图按计算节点进行区域划分,对不同计算节点内的区域进行同构分析,确定各计算节点内及相互之间的相同区域分析顺序,按顺序对物理版图区域进行分析和优化,在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。本发明利用多级区域分割算法对物理版图进行划分,利用同构分析方法对划分后区域进行分析,找出其中相同的区域,让时间顺序上在后的要分析和优化的区域,不用再进行计算,而是直接复用与其完全相同的在先区域计算结果,从而节约时间,提高速度。 | ||
申请公布号 | CN102314523A | 申请公布日期 | 2012.01.11 |
申请号 | CN201010214239.0 | 申请日期 | 2010.06.30 |
申请人 | 中国科学院微电子研究所 | 发明人 | 吴玉平;陈岚;叶甜春 |
分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
代理机构 | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人 | 王建国 |
主权项 | 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法,包括:步骤1:输入集成电路物理版图数据;步骤2:对物理版图进行区域划分;步骤3:将不同的区域交给不同的计算节点;步骤4:各计算节点对分配的区域进行分析和优化;步骤5:输出集成电路物理版图分析结果;其特征在于,所述步骤4具体包括:步骤41:对计算节点内的区域再进行多级划分得到更小的区域;步骤42:分别对各计算节点内的区域进行同构分析,确定相同的区域;步骤43:对各计算节点之间的区域进行同构分析,确定相同的区域;步骤44:根据同构步骤42、步骤43的分析结果,确定各计算节点内及相互之间的区域分析顺序;步骤45:按顺序对区域进行分析和优化,在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。 | ||
地址 | 100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |