发明名称 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法
摘要 本发明公开一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法,涉及集成电路技术领域。本方法根据输入的集成电路物理版图数据,对物理版图按计算节点进行区域划分,对不同计算节点内的区域进行同构分析,确定各计算节点内及相互之间的相同区域分析顺序,按顺序对物理版图区域进行分析和优化,在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。本发明利用多级区域分割算法对物理版图进行划分,利用同构分析方法对划分后区域进行分析,找出其中相同的区域,让时间顺序上在后的要分析和优化的区域,不用再进行计算,而是直接复用与其完全相同的在先区域计算结果,从而节约时间,提高速度。
申请公布号 CN102314523A 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN201010214239.0 申请日期 2010.06.30
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 吴玉平;陈岚;叶甜春
分类号 G06F17/50(2006.01)I 主分类号 G06F17/50(2006.01)I
代理机构 北京市德权律师事务所 11302 代理人 王建国
主权项 一种加速集成电路物理版图分析和优化的方法,包括:步骤1:输入集成电路物理版图数据;步骤2:对物理版图进行区域划分;步骤3:将不同的区域交给不同的计算节点;步骤4:各计算节点对分配的区域进行分析和优化;步骤5:输出集成电路物理版图分析结果;其特征在于,所述步骤4具体包括:步骤41:对计算节点内的区域再进行多级划分得到更小的区域;步骤42:分别对各计算节点内的区域进行同构分析,确定相同的区域;步骤43:对各计算节点之间的区域进行同构分析,确定相同的区域;步骤44:根据同构步骤42、步骤43的分析结果,确定各计算节点内及相互之间的区域分析顺序;步骤45:按顺序对区域进行分析和优化,在分析和优化过程中复用计算节点之间同构区域分析和优化的结果。
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