用于荧光成像的校准装置和方法

摘要

用于在成像过程中鉴别照明变化的荧光标准物具有复合的荧光层压结构，该标准物响应于大致波长范围为375nm到430nm的光而发出荧光。该荧光体具有至少两个具有不同荧光响应的区域，如第一个区域由强荧光材料如GG420滤光玻璃制成。GG420玻璃的一部分被对其荧光响应有衰减作用的滤光玻璃覆盖。根据本发明的一个方法，在成像过程中，通过将该标准物放置在照相机前面而检测照相机成像过程中照明的变化。每张捕获的影像可含有标准物的影像，且可将不同影像中标准物的荧光响应比较，以鉴别由于照明变化引起的任何响应变化。然后可通过调整照明源、照相机或环境光照来纠正照明变化。获自，可通过数码影像处理来归一化影像。

主权项

用于鉴别面部皮肤多次照相机成像过程中照明变化的荧光标准物(26)，所述照明用发射光波长375nm到430nm的光源进行，其包括：荧光体，该荧光体响应波长范围为375nm到430nm的光而发出荧光，该荧光体具有三个具有不同荧光响应的区域；其中所述的荧光响应包含荧光强度；所述荧光体具有：第一层(28)，该第一层(28)的材料对波长范围为375nm到430nm的光具有荧光响应，第二层(30)，该第二层(30)的材料衰减所述第一层(28)的荧光响应，该第二层(30)仅部分地覆盖该第一层(28)；第三层(32)，该第三层(32)的材料部分覆盖第二层(30)，该第三层(32)在所述第二层(30)导致的衰减之外进一步衰减所述第一层(28)的荧光；一个限定照相机(16)、标准物(26)和面部皮肤之间的可再现空间关系的支持物。