发明名称 |
传感器及其制造方法 |
摘要 |
公开传感器和用于制造传感器的方法,在一个实施例中将蚀刻的半导体衬底晶片(300)接合到包括绝缘体上硅晶片的蚀刻的第一器件晶片(100),其然后接合到包括绝缘体上硅晶片的第二器件晶片(200)以形成通气的悬置结构,该结构的挠曲由嵌入的感测元件(140)确定以测量差分压力。在一个实施例中,嵌入该传感器中的互连通道(400)便于器件的流水线化封装同时满足与其他装置的互连性。 |
申请公布号 |
CN102313621A |
申请公布日期 |
2012.01.11 |
申请号 |
CN201110175619.2 |
申请日期 |
2011.06.17 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
S·K·加米奇;N·V·曼特拉瓦迪;M·克利茨克;T·L·库克森 |
分类号 |
G01L7/08(2006.01)I |
主分类号 |
G01L7/08(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
柯广华;朱海煜 |
主权项 |
一种用于测量环境的力的传感器,所述传感器包括:在衬底晶片(300)中从所述衬底晶片(300)的顶面延伸到所述衬底晶片(300)的外表面的通气孔腔(330);第一器件层(210),其中所述第一器件层(210)的底面接合到所述衬底晶片(300)的所述顶面;延伸通过所述第一器件层(210)到所述通气孔腔(330)的膜片腔(230);第二器件层(110),其中所述第二器件层(110)的底面接合到所述第一器件层(210)的顶面以在所述膜片腔(230)上形成膜片(130);以及接近所述膜片(130)在所述第二器件层(110)中用于感测所述膜片(130)中的挠曲的感测元件(140)。 |
地址 |
美国纽约州 |