| 发明名称 | 包括磁共振成像装置的粒子辐射治疗设备 | ||
| 摘要 | 被布置用于将带电粒子射束沿预定方向施加于成像体积内的施加区域的粒子辐射治疗设备包括被布置用于沿预定方向引导带电粒子射束的带电粒子射束源，进一步包括用于在施加带电粒子射束的同时在施加区域中生成磁场的磁场生成装置，其中磁场生成装置被布置用于提供对带电粒子射束的施加区域的接近并且在带电粒子射束的施加区域中提供均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向。 | ||
| 申请公布号 | CN101203268B | 申请公布日期 | 2012.01.11 |
| 申请号 | CN200680022106.5 | 申请日期 | 2006.06.16 |
| 申请人 | 英国西门子公司 | 发明人 | M·J·M·克勒伊普;P·比斯利 |
| 分类号 | A61N5/10(2006.01)I;G01R33/38(2006.01)I | 主分类号 | A61N5/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 卢江;刘春元 |
| 主权项 | 粒子辐射治疗设备，被布置用于将带电粒子射束沿预定方向(110)施加于施加区域，该粒子辐射治疗设备包括被布置用于沿预定方向引导带电粒子射束的带电粒子射束源，进一步包括用于在施加带电粒子射束的同时在包括施加区域的成像体积中生成磁场的磁场生成装置，其中磁场生成装置被布置用于提供对带电粒子射束的施加区域的接近并且在带电粒子射束的施加区域中提供均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向，其中磁场生成装置包括磁线圈，每个磁线圈包括导电材料的绕组；其中磁线圈关于中平面(XY)和反射平面(YZ)对称布置，反射平面(YZ)垂直于中平面(XY)，使得线圈具有相对于垂直于中平面(XY)和反射平面(YZ)的另一平面(XZ)的对称平面，每个线圈绕垂直于中平面(XY)的轴(Z)缠绕，并且其中绕组被配置成在操作中电流关于反射平面(YZ)对称并且关于中平面(XY)反对称，从而在磁场生成装置的中心产生合成场，该合成场垂直于反射平面(YZ)，并行于中平面(XY)，并且基本上沿预定方向定向。 | ||
| 地址 | 英国坎伯利 | ||