发明名称 液晶用取向膜曝光方法及其装置
摘要 一种液晶用取向膜曝光方法及其装置。在对液晶基板的取向膜照射细小间距的线形光图案并沿一个方向扫描时,对取向膜赋予与该扫描方向相应的同样的取向特性,但在现有的透过掩膜照射光图案来进行曝光的方式中曝光时间长,在实用上有瓶颈。本发明中,在对从光源发射的曝光光赋予偏振光特性并使其入射到具有大量微小可动镜面的微镜器件,把通过由微镜器件的微小可动镜面形成的反射图案反射的曝光光的图案经投影光学系统投影到载置在载台上的在表面上形成取向膜的基板上,对取向膜进行曝光的液晶用取向膜曝光方法中,在通过使载台在一个方向上连续移动而在一个方向上连续移动的基板上,曝光的图案以比载台的移动速度慢的速度移动来对取向膜进行曝光。
申请公布号 CN102314023A 申请公布日期 2012.01.11
申请号 CN201110193716.4 申请日期 2011.07.05
申请人 株式会社日立高新技术 发明人 吉武康裕;片冈文雄;根本亮二
分类号 G02F1/1337(2006.01)I 主分类号 G02F1/1337(2006.01)I
代理机构 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人 曾贤伟;曹鑫
主权项 一种液晶用取向膜曝光装置,是对液晶用取向膜进行曝光的曝光装置,该液晶用取向膜曝光装置的特征在于,具备:载台单元,其载置在表面上形成有取向膜的基板,并且可移动;光源,其发射曝光光;偏振光特性赋予单元,其对从该光源发射的曝光光赋予偏振光特性;图案形成单元,其以通过微小的可动镜面形成的图案来反射通过该偏振光特性赋予单元赋予了偏振光特性的曝光光的一部分光;投影光学部,其对载置在所述载台单元上的基板照射通过该图案形成单元反射的曝光光的图案,对所述取向膜进行曝光;以及对整体进行控制的控制单元,该控制单元控制所述载台单元和所述图案形成单元,在通过使所述载台单元在一个方向上连续移动而在一个方向上连续移动的所述基板上,所述曝光光的图案以比所述载台单元的移动速度慢的速度移动来对所述取向膜进行曝光。
地址 日本东京都