| 发明名称 | 线圈以及D形 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种具有线圈系统(O，U)的磁共振断层造影系统(101)，该线圈系统(O，U)包括具有至少一个天线(AO)的上部(O)和具有至少一个天线(A1-A9)的下部(U)，其中，线圈装置(O，U)的上部(O)被设置在用于容纳(z)检查对象(105)的开口(103)之上，其中，线圈装置(O，U)的下部(U)被设置(z)在检查区域(FoV)之下(U)，其中，线圈装置(O，U)的下部(U)比线圈装置(O，U)的上部(O)更靠近检查对象(105)。 | ||
| 申请公布号 | CN102309324A | 申请公布日期 | 2012.01.11 |
| 申请号 | CN201110183654.9 | 申请日期 | 2011.07.01 |
| 申请人 | 西门子公司 | 发明人 | 斯蒂芬.拜伯;马库斯.韦斯特 |
| 分类号 | A61B5/055(2006.01)I;G01R33/36(2006.01)I;G01R33/48(2006.01)I | 主分类号 | A61B5/055(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 谢强 |
| 主权项 | 一种具有线圈系统(O，U)的磁共振断层造影系统(101)，该线圈系统(O，U)包括具有至少一个天线(AO)的上部(O)和具有至少一个天线(A1‑A9)的下部(U)，其中，线圈装置(O，U)的上部(O)被设置在用于容纳(z)检查对象(105)的开口(103)之上，其中，线圈装置(O，U)的下部(U)被设置(z)在检查区域(FoV)之下(U)，其中，线圈装置(O，U)的下部(U)比线圈装置(O，U)的上部(O)更靠近检查对象(105)。 | ||
| 地址 | 德国慕尼黑 | ||