发明名称 |
液态金属离子源、二次离子质谱仪、二次离子质谱分析方法及其应用 |
摘要 |
本发明涉及一种液态金属离子源、二次质谱仪以及相应的分析方法及其应用。特别涉及根据所述温和SIMS(G-SIMS)方法的质谱方法。为此目的,所使用的液态金属离子源一方面包含具有原子量≥190U的第一金属,另一方面包含具有原子量≤90U的另一金属。根据本发明,对于G-SIMS方法来说,两种离子类型中的一种被交替从一次离子束中过滤出来并且作为纯质量一次离子束直射到目标上。 |
申请公布号 |
CN101878515B |
申请公布日期 |
2012.01.11 |
申请号 |
CN200880113870.2 |
申请日期 |
2008.10.16 |
申请人 |
约恩-托福技术有限公司 |
发明人 |
费利克斯·科尔默;彼得·赫斯特;安得烈亚斯·迪廷 |
分类号 |
H01J49/14(2006.01)I |
主分类号 |
H01J49/14(2006.01)I |
代理机构 |
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 |
代理人 |
臧建明 |
主权项 |
一种液态金属离子源,包括含有铋的合金,其特征在于:所述合金包含其它金属;所述其它金属的原子量≤90u,在铋中的溶解度≥1%,并且在离子束生成过程中,不形成或仅形成少量的具有铋的混合团簇,所述其它金属的天然或富集的主要同位素占所述液态金属离子源中的所述其它金属的总比例的比例为≥80%。 |
地址 |
德国明斯特市 |