发明名称 |
化合物、包含所述化合物的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物 |
摘要 |
本发明提供下式(1)表示的化合物,包括下式(1-a)表示的重复单元的共聚物和包含所述共聚物的抗蚀剂保护膜组合物。当使用所述抗蚀剂保护膜组合物时,所得到的抗蚀剂保护膜具有充分的透光率,不易于与抗蚀剂膜混杂,具有合适的亲水性或疏水性,不表现出图案形状变差的现象,易溶解于碱性显影剂溶液,并减少在浸没式或干式曝光过程的过程中各种缺陷的出现。<img file="dsa00000527439400011.GIF" wi="1303" he="702" />其中,在在式(1)和式(1-a)中,R<sub>11</sub>、R<sub>21</sub>和R<sub>22</sub>每个独立地表示氢原子、卤原子等;R<sub>1</sub>表示烷基、杂烷基等;R<sub>2</sub>表示氢原子或烷基;并且Q<sub>1</sub>和Q<sub>2</sub>每个独立地表示选自以下的任意一种:氢原子和卤原子。 |
申请公布号 |
CN102311344A |
申请公布日期 |
2012.01.11 |
申请号 |
CN201110175221.9 |
申请日期 |
2011.06.22 |
申请人 |
锦湖石油化学株式会社 |
发明人 |
朱炫相;朴柱铉;韩俊熙;任铉淳 |
分类号 |
C07C69/653(2006.01)I;C07C67/14(2006.01)I;C08F220/28(2006.01)I;C08F228/02(2006.01)I;G03F7/004(2006.01)I |
主分类号 |
C07C69/653(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
过晓东 |
主权项 |
1.下式(1)表示的化合物:[式1]<img file="FSA00000527439500011.GIF" wi="583" he="571" />其中,R<sub>11</sub>表示选自以下的任意一种:氢原子、卤原子、1-8个碳原子的烷基和1-5个碳原子的卤代烷基;R<sub>1</sub>表示选自以下的任意一种:烷基、杂烷基、芳基、杂芳基、环烷基、杂环烷基、烷基醚基和烷基羰基;R<sub>2</sub>表示选自以下的任意一种:氢原子和1-5个碳原子的烷基;并且,Q<sub>1</sub>和Q<sub>2</sub>每个独立地表示选自以下的任意一种:氢原子和卤原子。 |
地址 |
韩国首尔 |