一种采用稀土氧化物去除工业硅中硼磷杂质的方法

摘要

一种采用稀土氧化物去除工业硅中硼磷杂质的方法，涉及一种半导体材料工业硅。提供一种采用稀土氧化物去除工业硅中硼磷杂质的方法。将工业硅原料和造渣剂放进石墨坩埚；抽真空，启动中频感应电源加热，使石墨坩埚中的硅料和渣料熔化；待石墨坩埚内物料全部熔化后，将坩埚上方的石墨通气棒预热；向体系中开始通入惰性气体，待预热充分后将通气棒开始通气搅拌；渣过程中，通过调整中频功率，使反应温度为1550～1850℃；待造渣充分后将通气棒升离坩埚，然后通过翻转浇铸将硅液倒入石墨模具中，静置，冷却后取出硅锭，去除头尾杂质富集部分，得到提纯后的多晶硅锭，测量熔炼后的硼、磷杂质含量。

主权项

一种采用稀土氧化物去除工业硅中硼磷杂质的方法，其特征在于包括以下步骤：1)将工业硅原料和造渣剂放进石墨坩埚；所述造渣剂为RXOY‑SiO2‑BaO‑CaF2，其中RXOY为常用稀土氧化物Y2O3、La2O3、CeO2或Sm2O3；所述RXOY占RXOY‑SiO2‑BaO‑CaF2的质量百分比为20％～50％，BaO为10％～20％，SiO2为30％～50％，CaF2为5％～10％；2)抽真空，启动中频感应电源加热，使石墨坩埚中的硅料和渣料熔化；3)待石墨坩埚内物料全部熔化后，将坩埚上方的石墨通气棒预热；4)向体系中开始通入惰性气体，待预热充分后将通气棒开始通气搅拌；5)造渣过程中，通过调整中频功率，使反应温度为1550～1850℃；6)待造渣充分后将通气棒升离坩埚，然后通过翻转浇铸将硅液倒入石墨模具中，静置，冷却后取出硅锭，去除头尾杂质富集部分，得到提纯后的多晶硅锭，测量熔炼后的硼、磷杂质含量。