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发明名称
Cold Trap For Processing A Substrate
摘要
기판 처리 장치의 냉각장치가 개시된다. 본 고안의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치의 냉각장치는 증착 물질의 유입구(102)가 일면부에 형성되고, 타면부에 유출구(103)가 형성된 외통(100); 및 상기 외통(100)의 내부에 구비되며, 상기 외통(100)의 길이 방향을 따라 기립되게 설치되고 냉각수가 유동될 수 있게 연결된 복수의 냉각 채널(121)을 구비한 냉각부(120)를 포함하는 것을 특징으로 한다.
申请公布号
KR20120000223(U)
申请公布日期
2012.01.05
申请号
KR20100006969U
申请日期
2010.06.30
申请人
주식회사 테라세미콘
发明人
박경완
分类号
H01L21/02
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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