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Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises, bei welchem – Zellen (1–5) bereitgestellt werden, wobei äußere Begrenzungslinien einer ersten Zelle (5) und einer zweiten Zelle (4) jeweils die Form eines Polygons mit mindestens fünf Eckpunkten aufweisen, und – die Zellen (1–5) zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises in Reihen platziert werden, wobei – die maximalen Ausdehnungen sämtlicher platzierter Zellen (1–5) in einer ersten Richtung (10) gleich sind, – die Reihen entlang einer zur ersten Richtung (10) senkrechten zweiten Richtung (11) ausgerichtet sind, – die erste Zelle (5) eine L-förmige äußere Begrenzungslinie aufweist, – die zweite Zelle (4) eine T-förmige äußere Begrenzungslinie aufweist, und – die erste Zelle (5) und die zweite Zelle (4) derart in derselben Reihe benachbart zueinander angeordnet sind, dass ihre äußeren Begrenzungslinien ineinander eingreifen.
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