发明名称 ALD反应器,用来装载ALD反应器的方法,和生产线
摘要 本发明涉及用来处理一个或更多个基底(2)的ALD反应器(1),该ALD反应器(1)包括至少一个反应室,该至少一个反应室包括前板(6),该前板包括气体连接件(10),该气体连接件用来将起始材料、冲洗气体和类似的气体引入到反应室中。根据本发明,前板(6)被布置成用来放置在基底(2)上以便关闭反应室和放置在离开基底表面一定距离处以便打开反应室,使得当反应室处于打开状态时基底(2)被布置成用来装载在前板(6)的下方、上方或前方,并且使得在反应室的关闭状态中基底(2)通过ALD方法可处理,其中在该打开状态中前板(6)处于离开基底(2)一定距离处,在该关闭状态中前板放置到基底(2)上。本发明还涉及用来处理基底(2)的生产线并且涉及用来将基底装载到ALD反应器中的方法。
申请公布号 CN102308021A 申请公布日期 2012.01.04
申请号 CN201080006801.9 申请日期 2010.02.08
申请人 BENEQ有限公司 发明人 P·索伊尼宁;J·斯卡普
分类号 C23C16/455(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C16/54(2006.01)I 主分类号 C23C16/455(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 王爱华
主权项 一种用来处理一个或更多个基底(2)的ALD反应器(1),所述ALD反应器(1)包括至少一个反应室,所述至少一个反应室包括前板(6),所述前板具有气体连接件(10),所述气体连接件用来将起始材料、冲洗气体和类似的气体供给到所述反应室内,其特征在于,所述前板(6)被布置成用来放置在所述基底(2)上以便关闭所述反应室,和放置在离开所述基底一定距离处以便打开所述反应室,使得当所述反应室处于打开状态时,所述基底(2)被布置成用来被装载在所述前板(6)的下方、上方或前方,并且使得在所述反应室的关闭状态中所述基底(2)能通过ALD方法处理,其中在所述打开状态中,所述前板(6)在离开所述基底(2)一定距离处,在所述关闭状态中,所述前板(6)放置在所述基底(2)上。
地址 芬兰万塔