发明名称 |
一种三级掺杂水平的选择性发射极及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种选择性发射极及其制备方法,适用于晶体硅太阳电池选择性发射极的制备。针对印刷掺杂法制备二级掺杂选择性发射极存在的问题,如掺杂效果受间接扩散影响大、油墨反应残留多、扩散后硅片不易清洗等问题,本发明充分利用太阳电池金属电极主线和副线的功能差异特性,采用含低填墨率主线的印刷图案将掺杂油墨印刷到硅片上,经过热处理后,可制备出三级掺杂水平的选择性发射极结构:覆盖油墨的副线1和覆盖油墨的主线图形阵列3获得重度掺杂;无油墨的非电极区域2获得轻度掺杂;无油墨的主线空白区域4获得中度掺杂。本方法可减少20%以上掺杂油墨的耗量,从而有效降低来自主线区域油墨的间接扩散影响,油墨反应残留物变少,扩散后硅片更容易清洗干净。 |
申请公布号 |
CN102306684A |
申请公布日期 |
2012.01.04 |
申请号 |
CN201110276579.0 |
申请日期 |
2011.09.19 |
申请人 |
刘锋 |
发明人 |
刘锋 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
将掺杂油墨按照特定图案印刷到硅片上,然后对硅片进行一系列热处理,其特征在于:通过上述操作,可在硅片上获得具有重度、中度和轻度三级掺杂水平的选择性发射极。 |
地址 |
200240 上海市闵行区东川路800号上海交通大学物理楼太阳能研究所104室 |