| 发明名称 | 用于梳理机的梳理盖板的导瓦和盖板头 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于梳理机(K)的梳理盖板(1)的盖板头(7)的导瓦(10)，所述导瓦可以沿轴向方向(AR)被推到盖板头(7)上去，所述导瓦包括至少一个滑动部分(14)，该滑动部分被设置在盖板头(7)和梳理机曲轨(53)之间并且在面向所述梳理机曲轨(53)的一侧包括有用来与梳理机曲轨(53)相配合的滑动表面(11)，该滑动部分(14)在面向盖板头(7)一侧具有接触表面(15)，该接触表面(15)能够被无间隙地放置在盖板头(7)的相应支撑表面(30)上。本发明也涉及一种相应的盖板头和梳理盖板。 | ||
| 申请公布号 | CN101128627B | 申请公布日期 | 2012.01.04 |
| 申请号 | CN200680006262.2 | 申请日期 | 2006.02.21 |
| 申请人 | 里特机械公司 | 发明人 | 拉尔斯·韦西格克;保罗·卡汉内斯;彼得·韦伯;马丁·托布勒 |
| 分类号 | D01G15/24(2006.01)I | 主分类号 | D01G15/24(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 楼仙英;徐年康 |
| 主权项 | 用于梳理机(K)的梳理盖板(1)的盖板头(7)的导瓦(10)，该导瓦(10)可以沿轴向方向(AR)被推到盖板头(7)上，包括至少一个滑动部分(14)，该滑动部分被设置在盖板头(7)和梳理机曲轨(53)之间，并且在面向所述梳理机曲轨(53)的一侧包括有用来与梳理机曲轨(53)相配合的滑动表面(11)，其特征在于，该滑动部分(14)在面向盖板头(7)一侧具有接触表面(15)，该接触表面(15)能够被无间隙地放置在盖板头(7)的相应支撑表面(30)上。 | ||
| 地址 | 瑞士温特图尔 | ||