发明名称 多阻态阻变存储器及利用其实现多阻态的方法
摘要 本发明涉及半导体制造技术领域,公开了一种多阻态阻变存储器,自上而下包括:顶电极、阻变层和底电极,其中所述阻变层为氧化物。本发明还提供了一种利用上述存储器实现多阻态的方法。本发明多阻态阻变存储器是一种基于SiO2材料的MIM结构的器件,在适当的操作方法下该器件可以产生多级电阻态,能够在一个单元内实现多位存储,且能提高存储器的存储密度。多阻态阻变存储器的阻变层采用基于SiO2的材料,具有工艺简单,与CMOS工艺兼容性好的优点。
申请公布号 CN102306706A 申请公布日期 2012.01.04
申请号 CN201110279718.5 申请日期 2011.09.20
申请人 北京大学 发明人 刘力锋;于迪;高滨;陈冰;张飞飞;康晋锋
分类号 H01L45/00(2006.01)I;H01L27/24(2006.01)I;G11C13/00(2006.01)I 主分类号 H01L45/00(2006.01)I
代理机构 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人 王莹
主权项 一种多阻态阻变存储器,其特征在于,自上而下包括:顶电极、阻变层和底电极,其中所述阻变层为氧化物。
地址 100871 北京市海淀区颐和园路5号
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