Verfahren und Vorrichtung zur Defekterkennung und Reparatur von EUV-Masken

摘要

Verfahren und Vorrichtung zur Defekterkennung und Reparatur einer EUV-Maske umfassend die Schritte: – Erstellen eines Fokusstapels an der fehlerhaften Stelle mit einem EUV-Maskeninspektionsmikroskop – Bestimmen der Oberflächenform der EUV-Maske an der fehlerhaften Stelle – Bereitstellen von Modellstrukturen mit der gemessene Oberflächenform, welche unterschiedlicher Phasenfehler aufweisen und bereitstellen von deren Fokusstapel – Bestimmen der 3d-Fehlerstruktur durch Vergleich der gemessenen Fokusstapel der fehlerhaften Stelle und der Fokusstapel der Modellstrukturen.