发明名称 排液头及其制造方法
摘要 本发明的目的是提供一种简单并且精确地制造排液头的方法,在所述排液头中,排出口与能量产生元件之间的距离是均匀的。
申请公布号 CN101811395B 申请公布日期 2011.12.28
申请号 CN201010125866.7 申请日期 2010.02.25
申请人 佳能株式会社 发明人 高桥健;小山修司;大角正纪;渡部正久
分类号 B41J2/16(2006.01)I 主分类号 B41J2/16(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人 史雁鸣
主权项 一种排液头的制造方法,所述排液头包括用于产生排出液体的能量的多个能量产生元件、设有液体排出口的排出口构件、以及与所述液体排出口连通的流路,所述制造方法包括:准备基片,所述基片具有头区域和周缘区域,其中,在所述头区域中,多个独立的单元相互邻接地配置,每个所述独立的单元由排列成列并对应于一个排液头的多个能量产生元件构成,在一个芯片单元内足以形成元件膜,所述周缘区域位于所述头区域的外侧,并且,在该周缘区域中,不设置满足一个芯片单元的元件膜;在所述基片的所述头区域和所述周缘区域设置有固体层;由所述固体层,在所述头区域上形成多个对应于所述独立的单元的所述流路的多个侧壁,并且在所述周缘区域形成围着所述多个侧壁设置的外壁构件;在将要成为所述流路的部分上设置树脂层,以便覆盖所述流路的所述侧壁和所述外壁构件;向着所述基片抛光所述树脂层,以便将所述侧壁和所述外壁构件从所述树脂层的所述表面露出;将所述排出口构件设置成覆盖所述树脂层和所述侧壁;通过除去所述树脂层形成所述流路;以及,从所述基片上除去所述周缘区域和形成在该周缘区域上的结构。
地址 日本东京