发明名称 光催化剂、其制造方法、含有光催化剂的分散液及光催化剂涂料组合物
摘要 本发明提供一种光催化剂,所述光催化剂包含具有光催化剂活性的基体和被覆该基体的实质上无细孔的氧化硅膜,碱金属的含量为1ppm以上1000ppm以下。另外,本发明还提供一种光催化剂的制造方法作为所述光催化剂的制造方法,即,使用硅酸盐,在存在于水性介质中的具有光催化剂活性的基体上被覆氧化硅膜,此时将含有具有光催化剂活性的基体和硅酸盐二者的水性介质的pH维持在5以下。
申请公布号 CN101115559B 申请公布日期 2011.12.28
申请号 CN200680004384.8 申请日期 2006.02.14
申请人 三井化学株式会社 发明人 宫添智;锅田贵司;堀内伸彦
分类号 B01J35/02(2006.01)I;B01J21/08(2006.01)I;B01J37/08(2006.01)I;C09D185/00(2006.01)I;C09D201/00(2006.01)I 主分类号 B01J35/02(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 杨宏军
主权项 一种光催化剂,所述光催化剂包含具有光催化剂活性的基体和被覆该基体的在400℃以上的温度下被烧成的氧化硅膜,所述氧化硅膜在通过氮吸附法测定20~500埃区域的细孔径分布中不具有来自氧化硅膜的细孔,碱金属的含量为1ppm以上1000ppm以下。
地址 日本东京都