一种显影方法

摘要

本发明涉及一种显影方法，包括将待显影处理的晶圆固定在晶圆支撑座上；在待显影处理的晶圆上实施预湿工艺；向待显影处理的晶圆喷涂显影液，使光刻胶层中被曝光的区域与显影液发生化学反应而溶解；对完成显影处理的晶圆进行清洗、甩干。本发明提供的显影方法，可使晶圆的光刻胶层表面始终处于湿润状态，因此，会在后续清洗步骤中更容易去除在晶圆表面形成的残留缺陷；其次，由于以不同的转速将预湿液喷涂到晶圆上，因此，可以在整个晶圆表面上形成均匀、完整的预湿液膜，从而可以在后续的清洗步骤中去除在晶圆表面上形成的残留缺陷，进而避免了由于显影工艺的不足造成的后续刻蚀或离子注入的缺陷，最终提高了产品的稳定性和良率。

主权项

一种显影方法，包括：将待显影处理的晶圆固定在晶圆支撑座上；在所述待显影处理的晶圆上实施预湿工艺；向所述待显影处理的晶圆喷涂显影液，使光刻胶层中被曝光的区域与所述显影液发生化学反应而溶解；对喷涂完所述显影液显影反应完成的晶圆进行清洗、甩干。