| 发明名称 | 气体分配装置及包括该气体分配装置的基板处理设备 | ||
| 摘要 | 一种用于基板处理设备的气体分配装置，包括：具有第一侧面的多个等离子体源电极；具有与第一侧面面对的第二侧面的多个等离子体接地电极，所述多个等离子体接地电极与多个等离子体源电极交替设置；和设置在每个等离子体源电极处的第一气体提供部，包括用于第一工艺气体的第一空间、穿过第一侧面并连接到第一空间的多个第一通孔、以及在第一侧面上的第一放电部。 | ||
| 申请公布号 | CN102299045A | 申请公布日期 | 2011.12.28 |
| 申请号 | CN201110176874.9 | 申请日期 | 2011.06.23 |
| 申请人 | 周星工程股份有限公司 | 发明人 | 都在辙;全富一;宋明坤;李政洛 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;钟强 |
| 主权项 | 一种用于基板处理设备的气体分配装置，包括：具有第一侧面的多个等离子体源电极；具有面对第一侧面的第二侧面的多个等离子体接地电极，所述多个等离子体接地电极与多个等离子体源电极交替设置；和设置在每个等离子体源电极处的第一气体提供部，包括用于第一工艺气体的第一空间、穿过第一侧面并连接到所述第一空间的多个第一通孔、和在所述第一侧面上的第一放电部。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||