发明名称 |
基底表面上的纳米线、其制造方法及应用 |
摘要 |
本发明涉及在基底表面上制造锚定纳米线的方法。根据本发明制造锚定纳米线的方法不包括气相沉积步骤,而是至少包括以下步骤:a)提供具有预定二维几何排列的纳米颗粒或纳米团簇的基底表面;b)将具有纳米颗粒或纳米团簇的基底表面与至少一种形成纳米线的材料的溶液接触,其中形成纳米线的材料选择性地沉积在纳米颗粒或纳米团簇上,并在此进一步生长。根据本发明的方法优选还包括在步骤a)中通过将基底表面与种子材料的溶液接触以使种子材料选择性地沉积在纳米颗粒或纳米团簇上从而将种子材料施加在纳米颗粒或纳米团簇上;以及在步骤b)中使形成纳米线的材料选择性地沉积在具有种子材料的纳米颗粒或纳米团簇上,并在此进一步生长。 |
申请公布号 |
CN102301479A |
申请公布日期 |
2011.12.28 |
申请号 |
CN200980146632.6 |
申请日期 |
2009.11.20 |
申请人 |
马克思-普朗克科学促进协会;意大利理工大学 |
发明人 |
S·库德拉;E·博克;J·P·施帕茨;L·曼纳 |
分类号 |
H01L29/06(2006.01)I;B82B3/00(2006.01)I;B82B1/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/06(2006.01)I |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 72002 |
代理人 |
过晓东 |
主权项 |
用于在基底上制造锚定纳米线的方法,其不包括气相沉积步骤,而是包括以下步骤:a)提供具有预定二维几何排列的纳米颗粒或纳米团簇的基底表面;b)将具有纳米颗粒或纳米团簇的基底表面与至少一种形成纳米线的材料的溶液接触,其中形成纳米线的材料选择性地沉积在纳米颗粒或纳米团簇上,并在此进一步生长。 |
地址 |
德国慕尼黑 |