发明名称 彩膜基板及其制造方法
摘要 本发明涉及一种彩膜基板及其制造方法。彩膜基板包括形成在基板上的第一黑矩阵、彩色树脂、保护层和公共电极,保护层上形成有用于阻挡第一黑矩阵的反射光射入阵列基板TFT沟道区域内的第二黑矩阵。彩膜基板制造方法包括:在基板上形成包括第一黑矩阵和彩色树脂的图形;形成包括保护层和第二黑矩阵的图形;形成包括公共电极的图形。本发明通过设置二层黑矩阵图形,第二黑矩阵可以有效阻挡从第一黑矩阵表面反射的反射光,使从第一黑矩阵表面反射的反射光不能射入TFT沟道区域,有效避免了漏电流的产生,最大限度地提高了电压保持率和对比度,提高了液晶显示器的质量。
申请公布号 CN101825802B 申请公布日期 2011.12.28
申请号 CN200910079291.7 申请日期 2009.03.06
申请人 北京京东方光电科技有限公司 发明人 董敏;赵海玉;刘圣烈;郝昭慧
分类号 G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02F1/1335(2006.01)I
代理机构 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人 曲鹏
主权项 一种彩膜基板,包括形成在基板上的第一黑矩阵、彩色树脂、保护层和公共电极,其特征在于,所述保护层上形成有用于阻挡第一黑矩阵的反射光射入阵列基板TFT沟道区域内的第二黑矩阵。
地址 100176 北京市经济技术开发区西环中路8号