发明名称 涂敷装置
摘要 本发明提供一种涂敷装置,在将从涂敷头的喷嘴喷出的溶液的液滴涂敷到基板上的涂敷装置(100)中,具有基板保持移动机构(30),其保持基板(K)并使该基板(K)循环移动,以使其依次位于基于涂敷头(7)的溶液的喷出作业位置、基于照相机(23)的拍摄作业位置、以及基于洗涤装置(26)的洗涤作业位置中的各位置。
申请公布号 CN102300644A 申请公布日期 2011.12.28
申请号 CN201080005657.7 申请日期 2010.01.25
申请人 芝浦机械电子株式会社 发明人 伊原一彦
分类号 B05C13/00(2006.01)I;B05C9/12(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 B05C13/00(2006.01)I
代理机构 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人 庞乃媛;黄剑锋
主权项 一种涂敷装置,将从涂敷头的喷嘴喷出的溶液的液滴涂敷到基板上,其特征在于,具备:检测机构,根据涂敷到基板上的溶液的液滴的涂敷状态,检测该液滴的喷出状态;洗涤机构,对涂敷有上述溶液的液滴的基板进行洗涤;以及基板保持移动机构,保持上述基板,并使该基板循环移动,以使该基板依次位于基于上述涂敷头的溶液的喷出作业位置、基于检测机构的检测作业位置、基于洗涤机构的洗涤作业位置中的各个位置。
地址 日本神奈川县