发明名称 |
一种CuI薄膜的制备方法 |
摘要 |
本发明属于电化学领域,具体是一种CuI薄膜的制备方法,包括CuI纳米管,其特征在于:以FTO玻璃做衬底、高纯度的去离子水做反应溶剂,以CuSO4和KI为反应溶质,以EDTA做络合剂,采用电化学方法在沉积电位为-0.05~-0.6V、沉积时间为30~200分钟制备而成。本发明以FTO衬底作工作电极、高纯度铂片做对电极,饱和氯化银电极做参比电极,连接好电化学系统,以此系统作为反应系统进行CuI高质量薄膜的生长反应。本发明具有通过简单的方法制备出高质量的CuI薄膜、生产成本低,所制备的膜可直接应用于太阳能电池等光电子器件、便于工业化生产等优点。 |
申请公布号 |
CN102296337A |
申请公布日期 |
2011.12.28 |
申请号 |
CN201110154539.9 |
申请日期 |
2011.06.09 |
申请人 |
浙江东晶光电科技有限公司;浙江东晶电子股份有限公司 |
发明人 |
李京波;李庆跃;李凯;孟秀清;池旭明;李树深;夏建白 |
分类号 |
C25D9/04(2006.01)I |
主分类号 |
C25D9/04(2006.01)I |
代理机构 |
金华科源专利事务所有限公司 33103 |
代理人 |
黄飞 |
主权项 |
一种CuI薄膜的制备方法,包括CuI纳米管,其特征在于:以FTO玻璃做衬底、高纯度的去离子水做反应溶剂,以CuSO4和KI为反应溶质,以EDTA做络合剂,采用电化学方法在沉积电位为‑0.05~‑0.6V、沉积时间为30~200分钟制备而成。 |
地址 |
321016 浙江省金华市秋滨街道花溪路218号(330国道北金帆街西侧) |