进行实际流量检验的方法

摘要

提供一种确定等离子处理系统的反应室中实际气体流率的方法。该方法包括在质量流量控制器(MFC)的控制下由气流输送系统将气体输送至小孔，其设在该反应室的上游。该方法还包括对该气体加压以在该小孔内建立扼流状态。该方法进一步包括用一组压力传感器测量该气体的一组上游压力值。该方法还又包括应用一组校准因子的一个校准因子来确定该实际流率。该校准因子是这组上游压力值的平均值与一组极佳上游压力值的平均值的比，其与MFC的指示流率相关。

主权项

一种确定等离子处理系统的反应室中实际气体流率的方法，包括：在质量流量控制器的控制下由气流输送系统将气体输送至小孔，所述小孔位于所述反应室的上游；对所述气体加压以在所述小孔内创建扼流状态；通过一组压力传感器测量所述气体的一组上游压力值；和应用一组校准因子的一个校准因子以确定所述实际气体流率，所述校准因子是该组上游压力值的平均值与一组极佳上游压力值的平均值的比，所述极佳上游压力值表示与指示流率相关联且基于准确气体表的压力值，所述准确气体表指的是基于实际气体属性和精确小孔的压力对流率的表，所述精确小孔为直径已知并且没有瑕疵的小孔，所述指示流率是所述质量流量控制器标示的流率。