发明名称 |
一种电感耦合装置及应用该装置的等离子体处理设备 |
摘要 |
本发明提供一种电感耦合装置,用于在工艺腔室内激发并维持等离子体,包括设置在工艺腔室内部的电感耦合线圈,与电感耦合线圈相连的射频电源以及调压电源。所述调压电源在工艺过程中向所述电感耦合线圈加载正偏压,以降低甚至消除电感耦合线圈附近的负自偏压,从而避免电感耦合线圈在工艺中被消耗以及造成晶片污染等的问题。本发明还提供一种应用上述电感耦合装置的等离子体处理设备。 |
申请公布号 |
CN102300383A |
申请公布日期 |
2011.12.28 |
申请号 |
CN201010216936.X |
申请日期 |
2010.06.23 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
韦刚 |
分类号 |
H05H1/46(2006.01)I;C23C14/48(2006.01)I;C23C16/513(2006.01)I |
主分类号 |
H05H1/46(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
张天舒;陈源 |
主权项 |
一种电感耦合装置,用于在工艺腔室内激发并维持等离子体,其包括设置在所述工艺腔室内部的电感耦合线圈,与所述电感耦合线圈相连的射频电源,其特征在于还包括调压电源,所述调压电源与所述电感耦合线圈相连并向所述电感耦合线圈加载正偏压。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5楼南二层 |