发明名称 |
梯度体纹理合成方法 |
摘要 |
本发明公开了一种梯度体纹理合成方法,涉及纹理合成技术领域,该方法包括:S1:建立三维空间均匀网格结构,根据事先输入的2D纹理图为网格的顶点设置颜色和颜色梯度;S2:在网格的每个格子中选择至少一个采样点,在每个采样点处选择至少两个采样平面,采样平面上任一点的颜色由采样点所在格子的顶点的颜色和颜色梯度通过三次插值得出;S3:在2D纹理图中找到与采样平面最相近的纹理块,并将纹理块的像素点拷贝到相应的格子中;S4:根据网格的各个格子中的像素点更新网格顶点的颜色和颜色梯度;S5:重复S2~S4的过程若干次,以合成梯度体纹理。采用本发明的方法合成体纹理,能够快速地合成梯度体纹理,且减小了体纹理的数据量和存储开销。 |
申请公布号 |
CN102298791A |
申请公布日期 |
2011.12.28 |
申请号 |
CN201110289079.0 |
申请日期 |
2011.09.26 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
胡事民;张国鑫 |
分类号 |
G06T15/04(2011.01)I |
主分类号 |
G06T15/04(2011.01)I |
代理机构 |
北京路浩知识产权代理有限公司 11002 |
代理人 |
王莹 |
主权项 |
一种梯度体纹理合成方法,其特征在于,包括以下步骤:S1:建立三维空间均匀网格结构,根据事先输入的2D纹理图为所述网格的顶点设置颜色和颜色梯度;S2:在所述网格的每个格子中选择至少一个采样点,在每个采样点处选择至少两个采样平面,采样平面上任一点的颜色由所述采样点所在格子的顶点的颜色和颜色梯度通过三次插值得出;S3:在所述2D纹理图中找到与所述采样平面最相近的纹理块,并将所述纹理块的像素点拷贝到相应的格子中,两个纹理块对应位置的像素点的颜色相减,之后计算L1或者L2范数,范数值越小两个纹理块越接近;S4:根据所述网格的各个格子中的像素点更新网格顶点的颜色和颜色梯度;S5:重复S2~S4的过程若干次,以合成梯度体纹理。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园北京100084-82信箱 |