| 发明名称 | 批处理式基板处理装置 | ||
| 摘要 | 公开了一种能够同时处理多个基板的批处理式基板处理装置，在腔室内部相对置地配置用于供给或排出基板处理时气氛气体形成用的气体供给管和气体排出管，并且能够向被装载到腔室中的基板均匀地供给基板处理气体。本发明涉及的能够同时对多个基板进行基板处理的批处理式基板处理装置(1)，其特征在于，包括：腔室(20)，对多个基板(10)提供基板处理空间；晶舟(30)，用于装载并支承多个基板(10)；多个加热器(70)，沿着基板(10)的层叠方向以规定间距配置；以及气体管基座(300)，配置在腔室(20)的内部的一侧，在气体管基座(300)上连接有气体供给管(100)及气体排出管(200)。 | ||
| 申请公布号 | CN102301461A | 申请公布日期 | 2011.12.28 |
| 申请号 | CN201080006150.3 | 申请日期 | 2010.01.29 |
| 申请人 | 泰拉半导体株式会社 | 发明人 | 许官善;魏光喜;曺载铉 |
| 分类号 | H01L21/324(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/324(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 陈英俊 |
| 主权项 | 一种批处理式基板处理装置，能够同时对多个基板进行处理，其特征在于，包括：腔室，对所述多个基板提供基板处理空间；晶舟，用于装载并支承所述多个基板；多个加热器，沿着所述基板的层叠方向以规定间距配置；以及气体管基座，配置在所述腔室的内部的一侧，在所述气体管基座上连接有气体供给管及气体排出管。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||