发明名称 一种用于光互连的聚硅氧烷光波导的制备方法
摘要 本发明公开了一种用于光互连的聚硅氧烷光波导的制备方法,目的是提供一种制备长度大于20cm,成本低的用于光互连的光波导制备方法。技术方案是设计光波导图样,制得模板;将聚偏二氟乙烯溶液涂覆在模版上,脱模得到翻版;用苯基甲基环硅氧烷混合液填充翻版中的凹槽,苯基甲基环硅氧烷混合液固化后成为脊型波导的芯层;把四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液涂覆在翻版上,烘烤后形成四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷薄膜;将翻版从四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷薄膜上剥离,四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷薄膜形成下包层;将四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液涂覆在脊形波导上,四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液固化,形成聚合物上包层。采用本发明可以制备长度满足任何芯片间光互联要求的光波导,且工艺简单,成本低。
申请公布号 CN101819296B 申请公布日期 2011.12.28
申请号 CN201010117909.7 申请日期 2010.03.05
申请人 中国人民解放军国防科学技术大学 发明人 季家镕;窦文华;冯向华;温昌礼;宋艳生
分类号 G02B6/13(2006.01)I;C08L83/04(2006.01)I 主分类号 G02B6/13(2006.01)I
代理机构 国防科技大学专利服务中心 43202 代理人 郭敏
主权项 一种用于光互连的聚硅氧烷光波导的制备方法,其特征在于包括以下步骤:第一步,采用计算机辅助设计工具设计横截面与多模光纤的芯径相匹配、长度满足芯片间光互联要求的光波导图样,将光波导图样提交给专业制版公司制得模板;第二步,将聚偏二氟乙烯粉末溶解于二甲乙醯胺溶剂中,聚偏二氟乙烯粉末与二甲乙醯胺溶剂的质量比为1∶8,室温下混合搅拌,然后将温度升至50℃回流半小时,得到半透明状的聚偏二氟乙烯溶液;第三步,将聚偏二氟乙烯溶液涂覆在已制备好的模版(1)上,在室温下让聚偏二氟乙烯溶液中的二甲乙醯胺溶剂充分挥发,固化后的聚偏二氟乙烯薄膜从模版(1)上脱模即得到模板的翻版(2);第四步,把苯基甲基环硅氧烷溶液与其配套固化剂溶液按质量比1∶1的比例混合,得到苯基甲基环硅氧烷混合液;用苯基甲基环硅氧烷混合液填充翻版(2)中的凹槽,在100℃~105℃温度下烘烤一小时,苯基甲基环硅氧烷混合液固化后成为脊型波导的芯层(3);第五步,把四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷溶液与其配套固化剂溶液按质量比10∶1的比例混合,得到四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液;四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液放在密闭容器中抽真空,再用超声波振荡以去除四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液中的气泡;用流涎法把四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液涂覆在填充了苯基甲基环硅氧烷混合液的翻版(2)上,将四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷和翻版(2)一起在80℃~90℃温度下烘烤一小时,使四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液发生交联反应固化,形成四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷薄膜(4);第六步,将翻版(2)从四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷薄膜(4)上剥离,四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷薄膜(4)形成下包层(5),留在四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷薄膜(4)上的苯基甲基环硅氧烷形成芯层(3),初步形成以空气为上包层的脊形波导;第七步,将四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液涂覆在第六步制备的以空气为上包层的脊形波导上,四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷混合液固化,形成聚合物上包层(6),得到以苯基甲基环硅氧烷为芯层(3),四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷为上包层(6)和下包层(5)的脊型波导。
地址 410073 湖南省长沙市开福区德雅路109号