发明名称 |
一种荧光介孔氧化硅纳米材料及其制备方法和应用 |
摘要 |
本发明公开了一种荧光介孔氧化硅纳米材料及其制备方法和应用。所述材料的特征是在介孔氧化硅的骨架中镶嵌有硅团簇或硅量子点形成的富硅微区。所述材料的制备方法包括:将水溶性表面活性剂和水解催化剂加入水中,在4~60℃下搅拌使其完全溶解;向体系中加入缺氧型硅酸酯,继续搅拌1~48小时,离心、洗涤、干燥;在惰性气氛或真空条件下,煅烧得到的前躯体材料。因本发明制备的荧光介孔氧化硅纳米材料具有较好的分散性、较均一的纳米尺寸和可调的孔径及可调的发光性能,因此,本发明的荧光介孔氧化硅纳米材料集多孔结构和荧光性能于一体,具有药物装载与输运和同步荧光成像的双重功能,在疾病的同步诊断与治疗中将具有潜在的应用价值。 |
申请公布号 |
CN102295926A |
申请公布日期 |
2011.12.28 |
申请号 |
CN201110100453.8 |
申请日期 |
2011.04.21 |
申请人 |
中国科学院上海硅酸盐研究所 |
发明人 |
何前军;施剑林 |
分类号 |
C09K11/59(2006.01)I;A61K47/04(2006.01)I;A61K49/00(2006.01)I |
主分类号 |
C09K11/59(2006.01)I |
代理机构 |
上海海颂知识产权代理事务所(普通合伙) 31258 |
代理人 |
何葆芳 |
主权项 |
一种荧光介孔氧化硅纳米材料,其特征在于:在介孔氧化硅的骨架中镶嵌有硅团簇或硅量子点形成的富硅微区。 |
地址 |
200050 上海市长宁区定西路1295号 |