发明名称 |
薄膜晶体管及其制造方法 |
摘要 |
提供了一种薄膜晶体管(TFT)及其制造方法。该TFT包括栅极电极;源极电极和漏极电极,在垂直方向上与栅极电极隔开并且在水平方向上彼此隔开;栅极绝缘层,设置在栅极电极与源极电极和漏极电极之间;有源层,设置在栅极绝缘层与源极电极和漏极电极之间。该有源层由导电氧化层形成并且包括至少两层,该至少两层根据掺杂到导电氧化物层中的杂质而具有不同导电率。 |
申请公布号 |
CN102299182A |
申请公布日期 |
2011.12.28 |
申请号 |
CN201110176922.4 |
申请日期 |
2011.06.23 |
申请人 |
周星工程股份有限公司 |
发明人 |
金宰湖 |
分类号 |
H01L29/786(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 |
代理人 |
徐金国;钟强 |
主权项 |
一种薄膜晶体管,包括:栅极电极;源极电极和漏极电极,在垂直方向上与所述栅极电极隔开并且在水平方向上彼此隔开;栅极绝缘层,设置在所述栅极电极与所述源极电极和漏极电极之间;有源层,设置在所述栅极绝缘层与所述源极电极和漏极电极之间,其中有源层由导电氧化层形成并且包括至少两层,该至少两层根据掺杂到导电氧化物层中的杂质而具有不同导电率。 |
地址 |
韩国京畿道 |