发明名称 薄膜晶体管及其制造方法
摘要 提供了一种薄膜晶体管(TFT)及其制造方法。该TFT包括栅极电极;源极电极和漏极电极,在垂直方向上与栅极电极隔开并且在水平方向上彼此隔开;栅极绝缘层,设置在栅极电极与源极电极和漏极电极之间;有源层,设置在栅极绝缘层与源极电极和漏极电极之间。该有源层由导电氧化层形成并且包括至少两层,该至少两层根据掺杂到导电氧化物层中的杂质而具有不同导电率。
申请公布号 CN102299182A 申请公布日期 2011.12.28
申请号 CN201110176922.4 申请日期 2011.06.23
申请人 周星工程股份有限公司 发明人 金宰湖
分类号 H01L29/786(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/205(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I 主分类号 H01L29/786(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;钟强
主权项 一种薄膜晶体管,包括:栅极电极;源极电极和漏极电极,在垂直方向上与所述栅极电极隔开并且在水平方向上彼此隔开;栅极绝缘层,设置在所述栅极电极与所述源极电极和漏极电极之间;有源层,设置在所述栅极绝缘层与所述源极电极和漏极电极之间,其中有源层由导电氧化层形成并且包括至少两层,该至少两层根据掺杂到导电氧化物层中的杂质而具有不同导电率。
地址 韩国京畿道