发明名称 液处理装置、液处理方法和存储介质
摘要 本发明涉及液处理装置、液处理方法和存储介质。本发明提供一种液处理装置,该液处理装置具备:具备在横方向上配置为一列的基板保持部的多个液处理部、这些液处理部共用的处理液喷嘴,目的在于抑制处理液从所述处理液喷嘴向基板落下,防止成品率降低。在横方向排列为一列的多个杯体的开口部间,在处理液喷嘴的移动路的下方侧,设置有与从通过移动部件移动的处理液喷嘴垂下的所述处理液的液滴接触,用于将该液滴从处理液喷嘴除去除液部。因此,为了对基板进行处理而使处理液喷嘴在待机部与各液处理部间移动时,能够防止所述液滴从处理液喷嘴向基板上落下。其结果是,能够抑制成品率的降低。
申请公布号 CN101807514B 申请公布日期 2011.12.28
申请号 CN201010119641.0 申请日期 2010.02.20
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 泷口靖史;吉村好贵;宫田雄一郎;山本裕介
分类号 H01L21/00(2006.01)I 主分类号 H01L21/00(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种液处理装置,其特征在于,具备:多个液处理部,分别构成为在上侧形成有开口部的杯体中设置有将基板水平保持的基板保持部,并且所述多个液处理部在横方向上配置为一列;处理液喷嘴,其由这些多个液处理部共用,用于向基板供给处理液;待机部,其设置在所述液处理部的列的延长线上,用于使处理液喷嘴待机;移动部件,其使所述处理液喷嘴在所述液处理部的各自的上方区域与所述待机部之间沿着液处理部的列移动;和除液部,其在所述杯体的开口部间,设置于处理液喷嘴的移动路径的下方侧,与从通过所述移动部件移动的处理液喷嘴垂下的所述处理液的液滴接触,用于将该液滴从处理液喷嘴除去。
地址 日本国东京都