| 摘要 |
<p>막이 형성된 기판을 회전시키면서 막 상에 그 막을 용해하는 처리액을 공급하여 막을 평탄화하는 액 처리 장치는 기판을 수평으로 회전 가능하게 유지하는 기판 유지부와, 기판 유지부를 회전시키는 회전 기구와, 기판 표면에 처리액을 공급하는 액 공급 기구를 구비하고, 액 공급 기구는 서로 동일한 처리액을 토출하는 제1 액 토출 노즐 및 제2 액 토출 노즐을 가지며, 제1 액 토출 노즐은 제2 액 토출 노즐보다 작은 직경으로 상대적으로 토출 유량이 작고 기판의 회전 방향으로 처리액이 토출되도록 경사져 있으며, 또한 기판의 중심과 주연 사이를 이동할 수 있다.</p> |
