| 摘要 |
<p>개시되는 플라즈마 처리 장치는, 피처리체를 수용하는 처리 용기와, 마이크로파를 발생시키는 마이크로파 발생부와, 마이크로파 발생부에서 발생된 마이크로파를 처리 용기를 향해 유도하는 도파로와, 도파로에 유도된 마이크로파를 처리 용기를 향해 방사하는 복수의 마이크로파 방사홀을 가지는 도체로 이루어지는 평면 안테나와, 처리 용기의 천벽(天壁)을 구성하고 평면 안테나의 마이크로파 방사홀을 통과한 마이크로파를 투과하는, 유전체로 이루어지는 마이크로파 투과판과, 처리 용기 내로 처리 가스를 도입하는 처리 가스 도입 기구와, 평면 안테나의 상방에 설치되어 처리 용기 내에 자계를 형성하고 당해 자계에 의해 마이크로파에 의해 처리 용기 내에 생성되는 처리 가스의 플라즈마 특성을 제어하는 자계 형성부를 구비한다.</p> |
