摘要 |
<p>본 발명은 원격 플라즈마 발생기가 구비된 플라즈마 반응기 및 이를 지지하는 거치대에 관한 것이다. 본 발명의 원격 플라즈마 발생기를 지지하는 거치대는 공정 챔버의 외부에서 상기 공정 챔버의 상부에 설치된 원격 플라즈마 발생기를 지지하고, 상기 원격 플라즈마 발생기를 상기 공정 챔버에서 고정 또는 분리할 수 있도록 회전 구조를 포함한다. 본 발명의 원격 플라즈마 발생기가 구비된 플라즈마 반응기 및 이를 지지하는 거치대에 의하면, 거치대에 의해 원격 플라즈마 발생기가 지지되기 때문에 원격 플라즈마 발생기의 하중이 그대로 플라즈마 반응기에 인가되는 것을 방지하여 플라즈마 반응기에 균열이 발생되거나 손상되는 것을 방지할 수 있다. 또한 거치대가 회전 가능하도록 형성되어 원격 플라즈마 발생기가 플라즈마 반응기와 쉽게 분리 결합될 수 있어 원격 플라즈마 발생기의 유지보수가 쉽다.</p> |